Системы для сушки и задубливания полимерных материалов на полупроводниковых пластинах
Скачать PDF
В процессе кристального производства, а также в технологии сборки WLCSP-компонентов, на полупроводниковые пластины наносятся полимерные (в том числе, эпоксидные) материалы. Поскольку эти полимеры наносятся в жидком состоянии, то их необходимо отверждать или задубливать.
Компания Swiss Ranks выпускает системы сушки и задубливания полимерных покрытий на полупроводниковых пластинах – полиимида, бензоциклобутена, полихлорбифенила и др. Эти системы могут быть изготовлены в различном исполнении – от полуавтоматических отдельностоящих установок до полностью автоматизированных кластеров. Вне зависимости от варианта исполнения, оборудование Swiss Ranks позволяет выполнять сушку и задубливание полимеров с высокой равномерностью и минимальным короблением пластин.
В системы Swiss Ranks разделяются на три типа в зависимости от применяемой технологии сушки полимеров:
- RC – сушка и отверждение с помощью резистивного нагрева
- IR – отверждение ИК-нагревом
- Microwave – отверждение СВЧ-излучением
RC- и IR-системы, в свою очередь, выпускаются в двух модификациях: для низко- и высокотемпературного отверждения.
Выбор технологии сушки и отверждения зависит от свойств полимера – материала, температуры сушки, температуры стеклования, коэффициента температурного расширения, прочности на разрыв.
В системах может быть установлено несколько независимых рабочих камер – таким образом, сразу несколько пластин могут быть обработаны параллельно в одной системе.