Полуавтоматическая система жидкостной химической обработки пластин CHEMIXX 30PM
Установка CHEMIXX 30pm это универсальная компактная система жидкостной химической обработки полупроводниковых пластин. Сочетание гибкости и низкой стоимости владения позволяет эффективно использовать эту установку как в опытном, так и серийном производстве.
Установка управляется с помощью встроенной 7” сенсорной панели. Программное обеспечение позволяет создавать, редактировать, сохранять и загружать рабочие программы, выполнять техническое обслуживание оборудования. Предусмотрена возможность создания резервных копий рабочих программ и лог-файлов, их экспорта через USB-пор, а также обновления программного обеспечения.
Запатентованная конструкция держателя пластин позволяет выполнять одновременную обработку обеих сторон пластины различными методами и реактивами.
Особенности системы:
- Предназначена для работы с пластинами до Ø 300 мм (Ø 12”) или прямоугольными подложками до 230 х 230 мм (9”x9”)
- Один или два манипулятора для автоматического дозирования реактивов (до 6 линий на каждой) с возможностью хода по оси Z
- Подогрев реактивов до 60°С
- Обработка водорастворимыми реактивами
- Подача реактивов через стандартное сопло (puddle), спреем или распылением через форсунку
- Высоконапорная и/или мегазвуковая очистка пластин
- Программное управление всеми подвижными узлами и линиями подачи реактивов
- Рабочая камера и корпус установки изготовлены из полипропилена
- Камера для размещения 3 (трех) емкостей с реактивами, с интегрированными насосами, датчиками остаточного уровня и датчиком утечки реактива
- Фильтры для водорастворимых реактивов
- Управление и программирование с помощью 7” сенсорной панели
- Стандартные или индивидуально изготовленные держатели пластин или подложек
- Компактная конструкция
- Предназначена для использования в лабораториях, мелкосерийного производства и выполнения НИОКР
Модель |
CHEMIXX 30pm |
Общие |
|
Габариты пластин и подложек |
диаметр до 300 мм (12”) или до 230х230 мм (12”x12”) |
Скорость вращения центрифуги |
До 4000* об/мин, программируется с шагом 1 об/мин |
Время обработки |
До 999,9 с, шаг 0,1 с |
Материал рабочей камеры |
Полипропилен |
Материал корпуса |
Полипропилен (белый) |
Коммуникации |
|
Электропитание |
400 VAC, 3 фазы, нейтраль, заземление, 50/60 Гц |
Вакуум |
-0,8 бар (-600 Торр), внешний диаметр трубки 8 мм |
Вытяжка |
Внешний диаметр 110 мм, 200 м3/ч |
Азот |
4 ± 0,2 бар, PFA-трубка с внешним диаметром 6 мм |
Чистый сухой воздух |
8 ± 2 бар, трубка с внешним диаметром 8 мм |
Деонизированная вода |
4 бар, внешний диаметр 8 мм |
Слив |
Внешний диаметр 38 мм |
Габариты |
|
В напольном исполнении |
1200 (760 мм) х 650/850 х 1300 мм |
* - зависит от конструкции держателя подложек, размеров и веса подложки
Параметры поставляемого оборудования могут быть отличны от указанных на сайте, точные характеристики указываются в спецификации при формировании коммерческого предложения.