Полуавтоматическая система жидкостной химической обработки подложек большого размера CHEMIXX 760

Установка CHEMIXX 760 предназначена для жидкостной химической обработки подложек размером до 535х535 мм (21”x21”). В установке могут выполняться такие процессы как отмывка, травление или проявление. Для подачи реактивов применяются сопла и форсунки разного типа. Также предусмотрена возможность подогрева реактивов до 60°С-85°С.
Программное обеспечение установки имеет дружественный пользовательский интерфейс со всеми необходимыми функциями, такими как создание и редактирование рабочих программ, администрирование пользователей, отслеживание состояния системы.
При проектировании этой системы особое внимание уделялось факторам, влияющим на удобство работы с оборудованием и безопасность для персонала.
- Габариты подложек до 535х535 мм / 21”x21”
- Автоматизированный процесс обработки с ручной загрузкой-выгрузкой подложек
- Один или два манипулятора для химической или механической обработки подложек. Программируемое управление перемещением манипуляторов по всем осям.
- До 6 линий подачи реактивов на каждом манипуляторе
- Гидромеханическая отмывка подложек щеткой
- Высоконапорная отмывка подложек деионизованной водой
- Мегазвуковая отмывка подложек
- Широкий спектр применяемых сопел и форсунок, в том числе для промывки подложки с обратной стороны. Подача реактивов через стандартное сопло (puddle), спреем или распылением через форсунку
- Подогрев реактивов до 60°С-85°С (зависит от реактива)
- Обработка водорастворимыми реактивами
- Высоконапорная и/или мегазвуковая очистка пластин
- Стандартные или индивидуально изготовленные держатели пластин или подложек, в том числе с минимальной площадью соприкосновения
- Камера для размещения 3 (трех) емкостей с реактивами, с интегрированными насосами, датчиками остаточного уровня и датчиком утечки реактива (опционально – внешний шкаф для хранения емкостей с реактивами)
- Водяной пистолет для ручной обработки деионизованной водой
- Прозрачное стеклянное окно в дверце рабочей камеры
- Может быть использована в помещении с классом чистоты ISO4
Управление:
- Управляющий компьютер, 22” сенсорный монитор
- Программное обеспечение с интуитивно понятным дружественным интерфейсом
- Программирование параметров процесса: скорость потоков реактивов, давление напора и положение форсунки для высоконапорной отмывки, мощность мегазвука и положение форсунки, скорость перемещения щетки и ее расстояние до подложки
- SECS/GEM интерфейс
- USB-порт для загрузки/выгрузки данных и обновления программного обеспечения
Параметры |
CHEMIXX 760+ |
Общие характеристики |
|
Габариты пластин и подложек |
до 535 х 535 мм (21” x 21”) |
Скорость вращения центрифуги |
До 3000* об/мин, программируется с шагом 1 об/мин |
Ускорение вращения центрифуги |
До 2000 об/мин в секунду, с шагом 1 об/мин в секунду |
Время обработки |
До 999,9 с, шаг 0,1 с |
Материал рабочей камеры |
Полипропилен (белый) |
Материал чаши центрифуги |
Полипропилен |
Материал корпуса |
Полипропилен (белый) |
Коммуникации |
|
Электропитание |
400 VAC, 3 фазы, нейтраль, заземление, 50/60 Гц |
Вакуум |
-0,8 бар (-600 Торр), внешний диаметр трубки 8 мм |
Азот |
4-6 бар, PE-трубка с внешним диаметром 8 мм |
Чистый сухой воздух |
8 ± 2 бар, трубка с внешним диаметром 10 мм |
Деионизированная вода |
4 бар, PFA-трубка с внешним диаметром 21 мм |
Вытяжка (центрифуга) |
1х Внешний диаметр 110 мм, 50-200 м 3 /ч |
Вытяжка (рабочая камера) |
2х Внешний диаметр 140 мм, 50-200 м 3 /ч |
Вытяжка (хранение реактивов) |
1х Внешний диаметр 110 мм, 50-100 м 3 /ч |
Слив |
Подключение к инженерным сетям заказчика |
Габариты |
|
Корпус установки |
1230 х 1280 х 2042/2710 мм |
Внешний шкаф для хранения реактивов |
585 х 650 х 1420 мм |
Параметры поставляемого оборудования могут быть отличны от указанных на сайте, точные характеристики указываются в спецификации при формировании коммерческого предложения.