Автоматизированный кластер для нанесения, проявления, сушки и задубливания фоторезиста VARIXX 804
VARIXX 804 – это полностью автоматизированный кластер, предназначенный для нанесения, сушки, проявления и задубливания фоторезистов. Кластер состоит из четырех модулей, объединенных в единую автоматизированную платформу, управляемую встроенным программным обеспечением. VARIXX 804 позволяет обрабатывать пластины диаметром до 200 мм или прямоугольные подложки размером до 150х150 мм.
Благодаря возможности гибкой конфигурации, кластер может быть оборудован модулями и оборудованием, необходимым для выполнения требований технологического процесса заказчика.
Выполнение всех процессов внутри кластера полностью автоматизировано, что обеспечивает высокий уровень производительности, качества и воспроизводимости процессов.
Особенности системы:
- Диаметр пластин от 50 мм (2”) до 200 мм (8”)
- Размер подложек до 150х150 мм (6”x6”)
- До 4 технологических модулей в составе кластера (комбинация модулей зависит от требований процесса): Модуль нанесения методом центрифугирования (открытая или закрытая чаша); Модуль нанесения распылением (воздушное или мегазвуковое сопло распылителя); Модуль проявления; Модуль термообработки этажерочного типа. 4 слота (5 слотов – опция) для термостоликов, столиков с охлаждением, функция подачи праймера HMDS, релаксация толстых пленок фоторезиста. Нагрев до 300ºС (опционально до 600ºC); Модуль удаления наплывов фоторезиста с краев пластины (EBR). Удаление наплывов с краев круглых пластин, пластин с базовым срезом, прямоугольных подложек.
- Переворот пластин ???Станции загрузки/выгрузки (опционально до 4 станций)
- Функция совмещения на лету для коррекции размещения пластины в модуле
- OSIRIS OYSTER PUMP (OOPXX) – прецизионная дозирующая помпа для резистов средней и высокой вязкости
- Стандартный вакуумный держатель пластин или держатель пластин с фиксацией по краю
- Робот-манипулятор, расположен в центре кластера
- Конфигурируемый интерфейс для внешней системы экспонирования
- Графический интерфейс управляющего программного обеспечения (ОС Windows 7 или 10)
- Интерфейс SECS/GEM
- Корпус кластера из нержавеющей стали с порошковым покрытием
- Класс чистоты помещения ISO4 (класс 10)
- Поддержка заданного микроклимата в кластере (опция)
- Внешние модули для хранения реактивов
Техническая спецификация VARIXX 804
Модель |
VARIXX 804 |
Общие |
|
Габариты пластин и подложек |
Диаметр пластин от 50 мм (2”) до 200 мм (8”) Размер подложек до 150х150 мм (6”x6”) |
Рама системы |
Стенки из нержавеющей стали с порошковым покрытием, запираемые прозрачные дверцы для доступа в рабочую зону |
Термостол |
Анодированный алюминий с тефлоновым покрытием |
Коммуникации |
|
Электропитание |
3х400 VAC/N/PE, 50-60 Гц, 32-64 А |
Чистый сухой воздух |
8 ± 2 бар, диаметр 8/10 мм (ID/OD) |
Азот (опционально) |
4,5 ± 0,5 бар, диаметр 8/10 мм (ID/OD) |
Вакуум |
-0,8 бар (-600 Торр), диаметр 8/10 мм (ID/OD) |
Деонизированная вода (опционально) |
3,0 ±1,0 бар |
Вытяжка |
Технологический модуль: 2 выхода, 50-180 м3/ч, внешний диаметр 110 мм
Модуль термообработки: 2 выхода, 50-180 м3/ч, внешний диаметр 110 мм
Модуль хранения реактивов: 3 выхода, 50-250 м3/ч, внешний диаметр 110 мм
|
Слив |
Канистра с датчиком уровня заполнения или подключение к инженерным сетям заказчика |
Габариты |
|
Ширина х Глубина х Высота |
1300 х 1300 х 2100 мм |
Параметры поставляемого оборудования могут быть отличны от указанных на сайте, точные характеристики указываются в спецификации при формировании коммерческого предложения.