Ручная установка совмещения и экспонирования EMA-400
Установка совмещения и экспонирования EMA-400 предназначена для использования в лабораториях, исследовательских центрах, университетах для выполнения НИОКР и мелкосерийного производства. Это экономичное и компактное оборудование, обладающее высокими эксплуатационными характеристиками.
Для совмещения реперных меток используется двупольный микроскоп с расщепленным полем. Расстояние между оптическими осями объективов регулируется в пределах 15-75 мм, что позволяет работать как с фрагментами пластин, так и с целыми пластинами диаметром до 100 мм.
Возможные области применения:
- Актуаторы
- Датчики давления
- Датчики ускорения
- Силовые приборы
- Оптоэлектронные компоненты
- Flip Chip / BGS / CSP компоненты
Размер пластин |
Фрагменты пластин или целые пластины диаметром до 100 мм |
Размер фотошаблона |
До 127х127 мм (5”x5”) |
Точность совмещения |
± 3,0 мкм |
Метод экспонирования |
Мягкий контакт, жесткий контакт, с микрозазором |
Разрешение |
3 мкм (мягкий контакт); 2 мкм (жесткий контакт) |
Регулируемое расстояние между осями объективов |
От 15 до 75 мм |
Общее увеличение |
До 100х |
Диапазон перемещений столика для пластин, XY и θ |
± 5 мм, ±5° |
Модуль экспонирования |
250 Вт ртутная лампа высокого давления, 405 нм Диаметр области экспонирования до 100 мм Параллельность пучков в пределах 1° Интенсивность 20 ±5% мВт/см2 Цифровой таймер для контроля времени экспонирования |
Коммуникации |
Электропитание: 100 В, 50/60 Гц, 15А Вакуум: -80 кПа Азот или СЧВ: не менее 0,2 МПа |
Параметры поставляемого оборудования могут быть отличны от указанных на сайте, точные характеристики указываются в спецификации при формировании коммерческого предложения.